Polska metoda produkcji grafenu - z ochroną patentową w USA

Metoda wytwarzania grafenu, opracowana w Instytucie Technologii Materiałów Elektronicznych (ITME) w Warszawie, zyskała ochronę patentową w Stanach Zjednoczonych. Instytut wciąż czeka na analogiczną decyzję dotyczącą obszaru UE.

"Grafen może być bardzo szeroko stosowany, w różnych postaciach. Ten patent dotyczy jednej, dokładnie określonej metody - wytwarzania grafenu na podłożach z węglika krzemu, z przeznaczeniem na zastosowania w elektronice" - poinformował PAP dyrektor Instytutu Technologii Materiałów Elektronicznych dr Zygmunt Łuczyński. Tłumacząc, dlaczego ITME opatentował technologię poza granicami Polski, Łuczyński zaznaczył, że tradycyjny przemysł elektroniczny oparty na krzemie zbliża się do granic swoich możliwości, a na świecie prowadzone są intensywne prace nad wykorzystaniem w tej dziedzinie grafenu. "Ośrodki naukowe z wielu krajów wciąż pracują nad grafenem, chcąc go wykorzystać w elektronice. Osiągają coraz lepsze wyniki, jeśli chodzi o jakość tego materiału i możliwość wyprodukowania coraz większej jego powierzchni" - powiedział.

Dyrektor ITME zaznaczył, że droga do sukcesu w tej dziedzinie wciąż wydaje się długa i wyboista. "W pewnym momencie może się jednak okazać, że ktoś wymyśli inną niż my metodę nakładania grafenu na podłoża dla przemysłu elektronicznego. Na razie konkurują dwie metody, nasza i amerykańska. Wszystko na to wskazuje, że - jeśli chodzi o jakość - nasza jest bardziej perspektywiczna" - podkreślił.

Read more....